铝材曝光显影加工厂价格合理 东莞利成感光五金长颈鹿的特点

显影完毕的片子，能清楚地看到影像，但稳定性差，见光后会消失，如果存于显影液中，那么片子就会无任何图像，因此，就要用化学采用必要的处理才可达到要求，这个处理过程叫做定影。定影的作用是把感光片上未受光和未受显影液作用的卤素银溶解掉，只保留已还原的银原子。因此定影剂要求能溶解卤素银，而不破坏已还原的银。属于这样的药剂有很多，但有的有毒，有的能使底片染色，所以通常用硫酸钠（Na2S203) 。在特殊情况下，也可以采用硫酸铵[(NH4) 2S203]。“曝光显影工艺就是我们常说的黄光工艺，这种曝光工艺其实是很成熟的，它应用在PCB行业、半导体行业、甚至显示面板行业，但这种工艺应用到现在的3D玻璃盖板工艺的时间并不长。

显影液的组成

显影过程是将感光材料浸泡在显影液中完成的。显影液是由四种主要成份组成：显影剂、促进剂、保护剂和。下面分别加以介绍。

显影剂

从化学的组分来看，显影剂可以分为无机化合物和有机化合物两大类。无机化合物可作为显影剂的并不少，但其中显影性能良好的却不多。以前制版用感光材料以湿片为主时，以草酸亚铁作为显影主剂，随着湿片的淘汰，当然现在也就不再使用了。目前，使用的都是有机显影剂。由此可见，只有曝过光的银，才对显影液起反应，船被还原或转化成金属银。

显影液碱性的强弱是决定显影速度和影像反差的主要条件，而显影速度的快慢很大程度上影响着影像颗粒的粗细。pH值高的显影液，显影较快，获得的颗粒就较粗。反之，欲获得细小颗粒效果，须采用弱碱性的显影液。

常使用的保护剂是亚硫酸钠Na,SO，，俗称硫氧粉，有无水物Na,SO，和结晶水化物Na,SO，.7H,0之分，照相丘以无水Na,SO，为主当以结晶水化物代替无水物时，应以两倍的重量取代之。除此之外，还有亚NaHSO，或焦亚硫酸钾K,S,0，等。在PMD1000设备中，显影液是通过安装在腔体上方的喷嘴以扇形喷洒到掩模版上。

保护剂

显影剂在水溶液中，尤其是在碱性溶液中，极易被空气氧化成红褐色。氧化后，不仅降低了显影剂的浓度，改变了显影液的性能，而且还会产生污染力很强的棕色物质，使影像被污染。因此，显影液中必须加入能减缓显影剂被空气氧化速度的化学药品。这种药品就称为保护剂。我们知道显影中心是金属银所组成，因此，它吸附Br-的能力比显影中心的小得多，这样感光片上没有显影中心的地方被BI-所覆盖，而形成负电荷屏障，排斥显影离子，从而使该处的Ag+不能被还原为Ag。

防止显影剂的氧化和影像被污染

现以对二酚为例加以说明。对二酚可与曝光的卤化银在显影时发生反应生成对醒，对与水发生反应生成羟基醌，羟基醒继续反应可生成二羟基醌和羟基对二酚，生成的二羟基觀是很不稳定的，在溶液会中形成“腐殖酸”类的棕色聚合物，腐殖酸是一种结构复杂的化合物，而且是深褐色的，因此会使照相乳剂和显影液污染。改用Topbeam喷嘴冲水清洗掩模版，掩模版应上下移动以确保整个掩模版被冲洗干净。