真空除气炉的构成介绍
真空测量装置:采用复合真空计,使测量更加准确。
加热烘烤组件:采用铠装管加热,包括工件托盘及支架,箱室顶部中心测温。功率:9.5千瓦,控制精度:±1℃。
管道阀门:真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成,为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵:选用涡旋干式真空泵,无油运行,可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵:选用脂润滑复合分子泵,可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
管道阀门:真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成,为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可高达10-7Pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
① 极限真空度高;
② 控温精度高;
③ 更高的升温速率;
④ 更加智能化;
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡;
⑥ 降低产品的氧化性;
⑦ 提高工艺室的洁净度。
真空除气储存柜
一种真空除气存储柜,包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等,柜体内设置有一个或多个储物室,储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端,柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖,储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板,托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连,真空除气炉。
本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方,环境温度是5-35℃,环境湿度是35%~65%的相对湿度;且要保持放置处长期通风良好的位置。
请小心将物品放入机台,关上箱门,检查是否密闭。试验结速后,站侧面打开箱门,以免热气烫到面部。
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