真空电镀加工价格服务周到「在线咨询」邓建国个人资料

真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求，简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术，真空电镀有真空蒸发镀，溅射镀，离子镀等，获得这些沉积方法的途径有多种：电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法，真空电镀可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备。

真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊，工艺有蒸镀、溅镀等。真空离子镀，又称真空镀膜，真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高，而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用。

真空溅射镀膜的特点

对于任何待镀材料,只有能做成靶材,就能实现溅射

溅射所获得的薄膜与基片结合良好

溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好

溅射工艺可重复性好,膜厚可控制,同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜

真空溅射镀膜的缺点

溅射设备复杂

溅射淀积的成膜速率低,真空蒸镀淀积速率为0.1~5μm/min

基板升温较高和易受杂质气体影响

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，真空镀膜真空镀膜设备是镀膜工业上的一个重要部分。

真空镀膜技术已广泛的应用在如：

集成电路电学膜、数据纪录储存膜、光学领域的光学膜、钟表领域的表壳、表带等；

计算机显示用的感光膜；

TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜；

建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；

包装领域应用的防护膜、阻隔膜等诸多领域。随着制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。